
説明:
クライオスタットサーキュレーター/低温サーモスタットサーキュレーター加熱冷却水槽半導体製造装置の加熱部の冷却によく使用されます:単結晶ウェーハの洗浄および再印刷、印刷機、自動ホルダーマウント装置、スプレー装置、イオンプレーティング装置、エッチング装置、単結晶ウェーハ加工装置、スライサー、包装機、現像液の温度管理、露光装置、磁気発生部の加熱装置など。また、レーザー加工、融合機の加熱部、レーザーマーカー、発電機、CO2レーザー加工機など、レーザー装置の加熱部の冷却にも大きな役割を果たしています。
技術的パラメータ:
| モデル | 温度範囲(℃) | 解像度(℃) | 変動(±℃) | タンク容量(L) | ポンプ流量(L/分) | 電力(kW) | 寸法(mm) |
| HX-08 | 0~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
| HX-010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-020 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
| HX-030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-0508 | -5~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
| HX-0510 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-0515 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-0520 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
| HX-0530 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-1008 | -10~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*675 |
| HX-1010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
| HX-1015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-1020 | 20 | 2.2 | 400*450*1040 | ||||
| HX-1030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-2008 | -20~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*765 |
| HX-2010 | 10 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
| HX-2015 | 15 | 2.0 | 320*370*765 | ||||
| HX-2020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
| HX-2030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
| HX-3008 | -30~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.6 | 400*450*940 |
| HX-3010 | 10 | 1.7 | 400*450*940 | ||||
| HX-3015 | 15 | 2.1 | 400*450*940 | ||||
| HX-3020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
| HX-3030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
| HX-4008 | -40~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.8 | 400*450*940 |
| HX-4010 | 10 | 2.0 | 450*540*990 | ||||
| HX-4015 | 15 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
| HX-4020 | 20 | 2.5 | 400*450*1090 | ||||
| HX-4030 | 30 | 2.7 | 450*540*1090 |
より詳細な写真: