説明:
クライオスタットサーキュレータ/低温恒温サーキュレータ加熱冷却水槽半導体製造装置の加熱部の冷却によく使用されます:単結晶ウェーハ洗浄・再印刷、印刷機、ホルダー自動装着装置、スプレー装置、イオンプレーティング装置、エッチング装置、単結晶ウェーハ加工装置、スライサー、包装機、温度現像液、露光装置、磁気発生部の加熱装置などの管理。また、レーザー加工、融合機の加熱部、レーザーマーカー、発電機、CO2レーザー加工などのレーザー装置の加熱部の冷却にも大きな役割を果たします。機械など
技術パラメータ:
モデル | 温度範囲(℃) | 解像度(℃) | 変動(±℃) | タンク容積(L) | ポンプ流量(L/min) | 電力(kw) | 寸法(mm) |
HX-08 | 0~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
HX-010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-020 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
HX-030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-0508 | -5~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
HX-0510 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-0515 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-0520 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
HX-0530 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-1008 | -10~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*675 |
HX-1010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-1015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-1020 | 20 | 2.2 | 400*450*1040 | ||||
HX-1030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-2008 | -20~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*765 |
HX-2010 | 10 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-2015 | 15 | 2.0 | 320*370*765 | ||||
HX-2020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
HX-2030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
HX-3008 | -30~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.6 | 400*450*940 |
HX-3010 | 10 | 1.7 | 400*450*940 | ||||
HX-3015 | 15 | 2.1 | 400*450*940 | ||||
HX-3020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
HX-3030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
HX-4008 | -40~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.8 | 400*450*940 |
HX-4010 | 10 | 2.0 | 450*540*990 | ||||
HX-4015 | 15 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-4020 | 20 | 2.5 | 400*450*1090 | ||||
HX-4030 | 30 | 2.7 | 450*540*1090 |
より詳細な写真: