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產品

HX系列(-5 ~ -40℃) ~ 100℃實驗室冷凍恆溫槽加熱冷卻槽循環機

簡短的介紹:

  • 實驗室水浴加熱冷卻循環器
  • 溫度範圍:(-5 ~ -40℃) ~ 100℃,罐體容積:8~30L
  • 溫度解析度:0.01℃,溫度波動:±0.05℃

 


  • 型號:HX-08~HX-030:0~100℃,8~30L
  • 型號:HX-0508~HX-0530:-5~100℃,8~30L
  • 型號:HX-1008~HX-1030:-10~100℃,8~30L
  • 型號:HX-2008~HX-2030:-20~100℃,8~30L
  • 型號:HX-3008~HX-3030:-30~100℃,8~30L
  • 型號:HX-4008~HX-4030:-40~100℃,8~30L
  • 產品資訊

    產品標籤

    描述:

    低溫恆溫器循環器/低溫恆溫循環器加熱冷卻水浴常用於半導體製造設備發熱部分的冷卻:單晶矽片清洗及重印、印刷機、自動支架安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶矽片加工裝置、切片機、包裝機、溫度顯影劑管理、曝光裝置、磁發生部分的加熱裝置等。對雷射設備的加熱部分的冷卻也發揮著很大的作用:雷射加工、熔合機的加熱部分、雷射打標機、產生器、CO2雷射加工機等

    技術參數:

    模型 溫度範圍(℃) 解析度(℃) 波動度(±℃) 罐體容積(L) 泵浦流量(L/min) 功率(千瓦) 尺寸(毫米)
    HX-08 0~100 0.01 0.05 8 13 1.3 320*370*675
    HX-010 10 1.6 320*370*765
    HX-015 15 1.7 320*370*765
    HX-020 20 2.1 400*450*1040
    HX-030 30 2.3 450*540*990
    HX-0508 -5~100 0.01 0.05 8 13 1.3 320*370*675
    HX-0510 10 1.6 320*370*765
    HX-0515 15 1.7 320*370*765
    HX-0520 20 2.1 400*450*1040
    HX-0530 30 2.3 450*540*990
    HX-1008 -10~100 0.01 0.05 8 13 1.4 320*370*675
    HX-1010 10 1.6 320*370*765
    HX-1015 15 1.7 320*370*765
    HX-1020 20 2.2 400*450*1040
    HX-1030 30 2.3 450*540*990
    HX-2008 -20~100 0.01 0.05 8 13 1.4 320*370*765
    HX-2010 10 1.7 320*370*765
    HX-2015 15 2.0 320*370*765
    HX-2020 20 2.3 400*450*1040
    HX-2030 30 2.5 450*540*990
    HX-3008 -30~100 0.01 0.05 8 13 1.6 400*450*940
    HX-3010 10 1.7 400*450*940
    HX-3015 15 2.1 400*450*940
    HX-3020 20 2.3 400*450*1040
    HX-3030 30 2.5 450*540*990
    HX-4008 -40~100 0.01 0.05 8 13 1.8 400*450*940
    HX-4010 10 2.0 450*540*990
    HX-4015 15 2.3 450*540*990
    HX-4020 20 2.5 400*450*1090
    HX-4030 30 2.7 450*540*1090

    更詳細的圖片:

    冷凍水浴
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