描述:
低温恒温器循环器/低温恒温循环器加热冷却水浴常用于半导体制造设备发热部分的冷却:单晶硅片清洗及重印、印刷机、自动支架安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶硅片加工装置、切片机、包装机、温度显影剂管理、曝光装置、磁发生部分的加热装置等。对激光设备的加热部分的冷却也发挥着很大的作用:激光加工、熔合机的加热部分、激光打标机、发生器、CO2激光加工机等
技术参数:
模型 | 温度范围(℃) | 分辨率(℃) | 波动度(±℃) | 罐体容积(L) | 泵流量(L/min) | 功率(千瓦) | 尺寸(毫米) |
HX-08 | 0~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
HX-010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-020 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
HX-030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-0508 | -5~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.3 | 320*370*675 |
HX-0510 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-0515 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-0520 | 20 | 2.1 | 400*450*1040 | ||||
HX-0530 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-1008 | -10~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*675 |
HX-1010 | 10 | 1.6 | 320*370*765 | ||||
HX-1015 | 15 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-1020 | 20 | 2.2 | 400*450*1040 | ||||
HX-1030 | 30 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-2008 | -20~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.4 | 320*370*765 |
HX-2010 | 10 | 1.7 | 320*370*765 | ||||
HX-2015 | 15 | 2.0 | 320*370*765 | ||||
HX-2020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
HX-2030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
HX-3008 | -30~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.6 | 400*450*940 |
HX-3010 | 10 | 1.7 | 400*450*940 | ||||
HX-3015 | 15 | 2.1 | 400*450*940 | ||||
HX-3020 | 20 | 2.3 | 400*450*1040 | ||||
HX-3030 | 30 | 2.5 | 450*540*990 | ||||
HX-4008 | -40~100 | 0.01 | 0.05 | 8 | 13 | 1.8 | 400*450*940 |
HX-4010 | 10 | 2.0 | 450*540*990 | ||||
HX-4015 | 15 | 2.3 | 450*540*990 | ||||
HX-4020 | 20 | 2.5 | 400*450*1090 | ||||
HX-4030 | 30 | 2.7 | 450*540*1090 |
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